询价单
臭氧水处理系统pap-sc-2000pap-sc-2000
pap-sc-2000
用于水处理和水消毒的氧化系统
anseros 安索罗斯
德国
询价单
氧化和清洁硅片
imec和rca清洁流程
upw系统
高级氧化工艺aop
三相系统
生物降解doc
灭菌
消毒cip
半导体&光伏
制药和医疗技术
特别是在半导体加工中,需要完全清洁的臭氧系统。在处理过程中从臭氧系统发射到半导体表面的任何金属和颗粒(wafer/imic/rca/som等)都会影响芯片的质量。包括其组件——例如臭氧发生器com-ad或臭氧监测器wm——在内,anseros的pap-sc系统完全不含与臭氧接触的金属。无论是否有酸,它们都可以进行清洁的湿法和干法加工。为了确保安全,pap-sc系统包括一个cat-ho臭氧破坏器。
去离子水流量:100 - 2000 l/h
o3:1 - 100 ppmw
与臭氧接触的材料:pfa、石英
微信咨询